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Cloverfield 3 – Il Nuovo Capitolo Nello Spazio

Il terzo film della franchise avrà a che fare con gli astronauti

Ci tengono con il fiato sospeso la Paramount e la Bad Robot Productions di J.J. Abrams, che continuano a spostare l’uscita del terzo film della franchise Cloverfield. Stavolta pare che la decisione sia stata presa e il film approderà nelle sale americane il 2 febbraio, mentre in Italia uscirà il giorno prima distribuito da Fox. Anche sul titolo ci sono stati alcuni cambiamenti. Mentre tanti appassionati della saga si sfregavano le mani alla notizia dell’uscita di God Particle, J.J.Abrams ha deciso di stravolgere ulteriormente le cose. Al momento quindi non è ancora stato definito il titolo ufficiale, con voci che saltano da Cloverfield 3 a Cloverfield 2017.

Il nuovo film sarà il terzo capitolo della saga di cui fanno parte Cloverfield e 10 Cloverfield Lane. Quello che sappiamo sulla trama è che sarà ambientata in un futuro non tanto lontano e vedrà una squadra di astronauti a bordo di una stazione spaziale assistere alla distruzione della Terra causata da un esperimento fallito nel quale è stato coinvolto un acceleratore di particelle. Non a caso il titolo pensato in origine dal regista Julius Onagh faceva riferimento alla Particella di Dio, nome con cui viene chiamato il Bosone di Higgs. Le cose peggiorano quando gli astronauti vengono a scoprire l’esistenza di un’altra base spaziale. Costretti a rimanere isolati, dovranno lottare per la propria sopravvivenza.

Se l’uscita di 10 Cloverfield Lane è stata una sorpresa, a maggior ragione è stata quella di includere God Particle nel mondo Cloverfield. Esiste comunque un chiaro collegamento tra i due film visto che il personaggio di John Goodman in 10 Cloverfield Lane era un impiegato della Bold Futura, azienda di esperimenti scientifici ed esplorazioni aerospaziali. Ancora un po’ e potremo immergerci di nuovo nel mistero di questa saga criptica.

Questo terzo film di Cloverfield sarà diretto da Julius Onah e interpretato da David Oyelowo, Gugu Mbatha-Raw, Ziyi Zhang, Elizabeth Debicki, Daniel Brühl  e Chris O’Dowd .

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